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书法E站是为书法爱好者打造的碑帖图片批量正方化处理工具，将零散的碑帖单字图片统一正方化，便于排版打印成字帖，并去除背景杂色，使临摹时更专注于笔画和结构，统一尺寸后便于对比不同书家的同一字写法，提升学习效率。
书法E站特色
1、比例锁定技术：将任意尺寸的碑帖单字图片转换为指定大小的正方形，同时严格保持原始比例。
2、居中对齐处理：自动将文字居中放置在正方形画布中，确保书法范字的美观性，适合制作字帖。
3、自定义尺寸设置：支持输入任意像素值的正方形尺寸，适配不同字帖规格 ，满足多样化的需求。
4、书法场景优化：算法针对书法笔画特点优化，避免笔画被裁剪或压缩，保留书法艺术的细节韵味。
书法E站优势
1、阈值调节功能：可根据碑帖背景的黑白程度自定义阈值，区分文字与背景，避免背景识别错误。
2、边缘纯净处理：去除图片四边多余笔画或杂色块，使单字边缘清晰干净，进一步提升排版效果。
3、噪点抑制优化：处理过程中自动抑制背景噪点，使文字轮廓更清晰，适合后续临摹和教学使用。
4、原始属性保持：处理过程不改变图片的分辨率、色彩深度等原始属性，确保碑帖细节完整呈现。
书法E站怎么用
1、点击目录，选择你要优化的碑帖图片。
2、调整好参数，拖动滑块来选择黑白阈值、背景级别，还可以勾选背景柔化。
3、最后选择导出格式和图片尺寸，点击开始处理，下方会实时显示进度。
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